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到那时候这专利也不再具有独一无二性。

咋办呢？

所以提高光刻机的性能是必备选项。

一口吃个大胖子不可能，再说现在的技术也远远没达到二十世纪末的标准。

极紫外光刻技术这个杀手锏与这个时代格格不入。

国内半导体设备想要发展，也得循序渐进的来。

事实上在七十年代，还是硅谷那边的半导体厂商在打架，日本半导体产业远没有那么强有力的竞争力。

马萨诸塞州的perk elr率先搞出了投影式光刻机icralign100，让芯片不再那么贵不可攀。

几年后，gca公司又推出了步进式光刻机dsw4800。

从特曼教授寄来的杂志中不难看出，这台步进式光刻机有着

更先进的制

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