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到那时候这专利也不再具有独一无二性。
咋办呢?
所以提高光刻机的性能是必备选项。
一口吃个大胖子不可能,再说现在的技术也远远没达到二十世纪末的标准。
极紫外光刻技术这个杀手锏与这个时代格格不入。
国内半导体设备想要发展,也得循序渐进的来。
事实上在七十年代,还是硅谷那边的半导体厂商在打架,日本半导体产业远没有那么强有力的竞争力。
马萨诸塞州的perk elr率先搞出了投影式光刻机icralign100,让芯片不再那么贵不可攀。
几年后,gca公司又推出了步进式光刻机dsw4800。
从特曼教授寄来的杂志中不难看出,这台步进式光刻机有着
更先进的制
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